最新进口数据显示，11月光刻机进口金额为46亿元，其中上海进口35亿。9月以来，上海光刻机进口开始爆量， 9-11月光刻机进口数据分别为62、43和35亿元，三个月合计进口规模接近2024年全年（150亿元），且是2023年全年进口的2倍（60亿元），指引明年先进逻辑扩产需求的爆发。
光刻是晶圆制造核心工序
光刻是利用光化学反应原理，将掩模版上的电路图形转印到硅片衬底上的过程。
该过程通常包括涂胶、曝光和显影三大环节：
- 首先在硅片表面旋涂一层光刻胶，并经过预烘提高附着力；
- 随后在光刻机内将掩模图案与晶圆对准，光源经投影光学系统聚焦到光刻胶层，使曝光区域发生光化学反应并改变其溶解性能；
- 最后在显影液作用下去除指定区域的光刻胶，形成所需的图案轮廓。所得光刻胶结构将作为抗蚀层，用于指导后续刻蚀、离子注入等工序。
光刻环节位于晶圆制造流程的核心位置，是实现电路图案转移的起点环节。在前段工艺中，晶圆需经过反复的沉积、光刻、刻蚀与离子注入等步骤，光刻负责将电路设计图案精确投射到硅片表面，并通过后续刻蚀形成纳米级器件结构。作为贯穿各制程的关键工序，光刻直接决定了器件尺寸、线宽与集成度。
光刻机是半导体设备中市场占比最大的品类，价值量极高。2024年全球半导体设备销售额约1090亿美元，其中光刻机以约24%的份额居首。受技术复杂性与交付难度驱动，光刻机单机价格远超其他设备：DUV机型售价在2000万–5000万美元区间，ASML EUV机型单台可达1.5亿–2亿美元，而最新High-NA EUV设备价格或高达3.5亿–4.1亿美元。
三大环节构成整机核心
光刻机系统高度复杂，光源、光学与工件台三大部件构成性能与价值的核心。光刻机整机由数十个子系统、数以万计零部件协同运作，包括自动对准、调焦调平、传输搬运、环境控制及整机控制等模块。其中，曝光光源系统、光学系统与工件台是整机性能的三大核心部件，直接决定分辨率、成像精度与产能水平。
光学系统是光刻机最核心的价值环节。根据Bloomberg估算，蔡司是ASML最关键的供应商，负责提供光刻机EUV与DUV光刻机的投影物镜及反射镜系统，2024年其供货在ASML采购成本中占比超过28%，位居各子系统之首，是整机成本结构的核心环节。
光刻机概念股核心企业
福晶科技：非线性光学晶体全球龙头，曾通过欧洲代理向ASML少量供货；子公司至期光子研发的超精密光学元组件及高精度物镜与成像镜组已成功应用于国内重大技术装备的关键系统。
茂莱光学：精密光学综合解决方案提供商，具备自主光学镜头与系统设计能力，已完成KrF光刻机照明系统高精度光学器件工艺设计与样品制备，并交付客户验证。
波长光电：已面向直写光刻系统开发出不同倍率的照明镜头与成像镜头，并推出UV LED平行光源系统。
凯美特气：国内通过ASML认证的KrF/ArF光刻气供应商。
华特气体：国内同时通过ASML和日本GIGAPHOTON认证的气体企业，覆盖EUV光刻所需的全系混合气。
汇成真空：国内领先PVD镀膜设备厂商，已具备光刻掩模版镀膜设备生产能力。
美埃科技：为上海微电子装备开发国内首台28纳米光刻设备工艺制程所需的机台内国际最高洁净等级标准（ISO Class 1级）洁净环境提供EFU（超薄型设备端自带风机过滤机组）及ULPA（超高效过滤器）等产品。